窃取GE商业机密 美华人工程师认罪

新闻 Adam 8个月前 (05-31) 300次浏览 0个评论

习近平孤注一掷 传彭丽媛和女儿不满离去

从去年年底开始,网传彭丽媛和习近平已经分居,近日海外媒体援引中国问题专家、知名民运人士唐柏桥的消息证实了有关网传彭丽媛和习近平分居一事。 唐柏桥称,这件事情是真的,他认识的一名正部级高官的秘书写信告诉他,彭丽媛和女儿习明泽和习近平去年11月到12月间正式分居,…

窃取GE商业机密 美华人工程师认罪

位于纽约上州Niskayuna的通用集团全球研发中心。(谷歌地图)

通用电气(GE)全球研究部一名42岁的半导体工程师随杨(Yang Sui,音译),28日在纽约北区联邦法庭认罪,承认他在2015年至2017年间,从GE窃取了多个与碳化硅MOSFET的研究、设计和制造有关的电子文件。

MOSFET代表金属氧化物半导体场效应晶体管,是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。根据起诉书,碳化硅MOSFET被用于通用电气的各种零件和产品,包括航空设备和风力涡轮机。

据随杨在领英网(LinkedIn)上发布的个人页面信息,他在哈尔滨读完高中后于1996年考上清华大学,攻读材料科学,之后在爱阿华州立大学和普渡大学分别获取硕士和博士学位,博士期间他曾担任普渡大学中国学生学者联谊会副会长;2010年10月至2018年1月,他在位于纽约上州Niskayuna的通用集团全球研发中心担任半导体装置工程师。

纽约北区联邦法院法官Mae A. D’Agostino将在今年9月22日对随杨判刑。随杨所犯的“窃取商业机密罪”面临最高10年的监禁,最高25万美元或犯罪所得金钱收益两倍的罚款,外加刑满后最高三年监督释放。

此案由联邦调查局(FBI)调查,由联邦助理检察官和国家安全部审判律师起诉。

该案也是近年来由通用电气(GE)提出的商业秘密盗窃案之一。2014年来自中国的电脑软体工程师谢军(Jun Xie,音译)被控盗窃通用属下医疗集团(GE Healthcare)的商业机密,窃取了1.4 GB或240万个信息文件包括工程设计、产品测试信息和业务战略发送给中国的亲戚。由于他是用H-1B工作签证在美工作,定罪后即被递解出境。

2018年另一起案件仍在审理中。该案件中,中国“千人计划”专家、GE工程师郑小清在GE动力及水能(GE Power& Water)工作期间,用“隐写术”窃取含有天然气与蒸气涡轮科技设计模型、工程图及其它细节的电子档。随后他将这些档案寄给位于中国的商人张照曦(Zhaoxi Zhang,音译)。郑小清2018年在纽约上州Niskayuna镇被捕,纽约北区联邦法庭定于今年9月21日遴选陪审团审理此案。

钧天 | 真实新闻与评述:窃取GE商业机密 美华人工程师认罪

北大建数十监狱 大规模迫害死63人

我是北大学生时没有上过林涛先生的课,但是后来我跟林先生有过象上课一样(也许应该说是比上课更加)严肃认真的谈话。我写文革历史,访问了他,聆听他讲北京大学的文革历史。他的谈话记录,和我做过的大量采访笔记一起,矗立在纵贯全墙的长书架上,从书房的一边排到了另一边。我一…


钧天|真实新闻与评论 本网站采用BY-NC-SA协议进行授权
转载请注明原文链接:窃取GE商业机密 美华人工程师认罪
喜欢 (0)
发表我的评论
取消评论
表情 加粗 删除线 居中 斜体

Hi,您需要填写昵称和邮箱!

  • 昵称 (必填)
  • 邮箱 (必填)
  • 网址